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本周热点问题

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2026-06-26 15:51:34
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1. CDA — 洁净干燥压缩空气(Clean Dry Air)
CDA是一种经过深度干燥(露点可达-20℃至-70℃)和精密过滤的超净压缩空气,主要用于半导体、医药等高精尖领域的气动设备、搬运、洁净吹扫等。在半导体厂务中,CDA用于气动执行器、仪器气缸、一般冲吹等。其管道通常采用光亮退火(BA)低碳316L不锈钢管。
2. PN2 — 工艺氮气(Process Nitrogen / 纯化氮气)
PN2是经过纯化的高纯度氮气,用于制程中的空间填充、超洁净吹扫、惰性气体保护等。在半导体工艺中,PN2常用于腔体Purge(吹扫)及超洁净环境维护。管道多采用内壁电解抛光(EP)的316L不锈钢管,以保证气体纯度。
3. PCW — 工艺冷却水(Process Cooling Water)
PCW是用于冷却制程机台的循环水系统,通常在半导体、液晶面板制造中用于带走设备热量。管材常用SUS 304不锈钢或高压软管。
4. AA — 仪表空气(Instrument Air)或 空气
在化工/石化PID图中,AA通常代表空气(Air)。在半导体厂务中,AA也可能指代一般压缩空气(Plant Air),但更标准的缩写是CDA。注意:在化工行业,AA与IA(仪表空气)有时混用。
5. GN2 — 一般氮气(General Nitrogen)
GN2是纯度要求相对较低的氮气,用于一般性吹扫、Purge(吹扫)、非关键区域的洁净吹扫等。其管道要求低于PN2,可采用BA级316L不锈钢管。
6. OW — 原水(Original Water / Raw Water)
根据搜索结果中的介质代号,OW可能对应原水(Raw Water)。但在半导体厂务中,更常见的缩写是RW(Raw Water)或CW(City Water,自来水)。OW的具体定义需结合项目图纸确认,但推测为“原水”或“普通水”。
7. PV — 工艺真空(Process Vacuum)
PV是用于制程中吸尘、物料搬运、腔体抽真空等的真空系统。在半导体制造中,PV用于吸引搬移、制程转换之真空建立。与之对应的还有HV(House Vacuum,清洁真空/真空吸尘)。
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